一、應(yīng)用范圍概述：

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水  液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等.

二、典型工藝流程

     預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

      預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)

       預(yù)處理－一級反滲透－加藥機（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (工藝)     

         預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)

          處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

三、達到標(biāo)準(zhǔn)

 純化水標(biāo)準(zhǔn)，注射水標(biāo)準(zhǔn) 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗數(shù)據(jù)）

    集成電路用純水水質(zhì)

    國家電子級純水標(biāo)準(zhǔn)

    美國SEMI標(biāo)準(zhǔn)

四、設(shè)備特點

        為滿足用戶需要，達到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，延長設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設(shè)計上，取達國家自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。